国内刊号:61-1133/TG
国际刊号:1001-3814
发布日期:
作者:晁盛远, 陈源,
关键词:镁合金, 微弧氧化层, 化学镀铜, 四羟丙基乙二胺(THPED),
为了改善镁合金微弧氧化层(MAO)的导电性能,以次亚磷酸钠为还原剂,柠檬酸钠为主络合剂,四羟丙基乙二胺(THPED)为添加剂,在AZ31B镁合金MAO陶瓷层上制备了化学镀铜层。利用SEM、XRD、EDS、电化学试验及四探针测试等手段研究了复合膜层的微观结构、相组成、导电性和反应过程。结果表明:镀铜层的沉积速率随着THPED占比的增加呈现先增大后减小的趋势。络合剂的最佳配比为柠檬酸钠16 g/L、THPED 4g/L,此时铜镀层与MAO层紧密结合,电阻率为4.89×10-3mΩ·cm。电化学结果显示,镍离子的加入会促进铜离子还原反应的进行,THPED占比较小时会促进还原反应的进行,但当THPED超过4 g/L时,会对还原反应起到抑制作用。
来源:2025年第17期
《热加工工艺》期刊编辑部