热加工工艺

北大核心,JST,WJCI,卓越期刊,

国内刊号:61-1133/TG

国际刊号:1001-3814

热加工工艺杂志2025年第16期:磁控溅射工艺对Al箔上沉积Cu2ZnSnS4薄膜的影响

发布日期:

作者:傅伟海, 何玉定, 何曦隆, 金珮璇, 梅翔, 蔡伟通,

关键词:Cu<sub>2</sub>ZnSnS<sub>4</sub>, 磁控溅射, 堆叠结构, 溅射时间, 柔性衬底,

采用磁控溅射和后硫化法在Al衬底上制备Cu2ZnSnS4(CZTS)薄膜,研究了金属前驱体堆叠结构和溅射时间对Al衬底上沉积的CZTS薄膜质量的影响。X射线衍射(XRD)和拉曼(Raman)光谱表明所有样品均存在锌黄锡矿型CZTS相。扫描电镜(SEM)和X射线能谱分析(EDS)表明所有样品的Al/CZTS界面不存在Al2S3二次相层。电流-电压(I-V)特性曲线表明Al/CZTS界面形成欧姆接触。上述实验结果证明Al作为CZTS膜的衬底和背电极的可行性。此外,通过Raman光谱和EDS证实采用Al/Cu/Zn/Sn/Cu和Al/Zn/Sn/Cu/Zn堆叠结构的样品薄膜表面会存在明显的CuxS二次相,而采用Al/Zn/Sn/Cu堆叠结构的样品没有观察到CuxS二次相。并且,随着溅射时间的成倍增加,样品薄膜变得更平整,CZTS相的结晶性先增强后减弱,Sn2S3二次相减少,CZTS/Al的结构电阻先减少后增大。

来源:2025年第16期

《热加工工艺》期刊编辑部

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