热加工工艺

作者：张而耕, 吴昌, 陈强, 周琼,

关键词：磁控溅射靶, Comsol模拟, 磁场分布, 导磁片,

针对磁控溅射沉积涂层技术中存在着的靶材利用率低和刻蚀不均匀等问题，基于计算机数值模拟仿真技术，通过对矩形平面磁控溅射靶材的内、外磁铁结构参数的设计，以及导磁片长度和厚度的设置，模拟分析内、外磁铁和导磁片在不同结构参数条件下，靶材的表面磁场及磁感应强度分布。结果表明，在内磁铁高12 mm、直径20 mm，外磁铁高16 mm、直径10 mm 的结构参数条件下，靶材表面水平磁场的最大磁感应强度在35 mT 左右，且水平磁感应分布均匀。与此同时，在设置长5 mm，厚2 mm 的导磁片后能更加明显的改善靶面水平磁场分布，提高靶材的利用率，进而整体改进沉积涂层的综合性能。利用模拟分析可得到靶面水平磁感应强度适中、分布较为合理的靶结构参数，对实际磁控溅射靶的设计具有指导意义。

来源：2023年第12期

《热加工工艺》期刊编辑部

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