国内刊号:61-1133/TG
国际刊号:1001-3814
发布日期:
作者:高正源, 杨栋, 孙程锦, 卢再亮, 孙鹏飞,
关键词:磁控溅射, 氮化钛薄膜, 溅射参数, 择优取向, 力学性能,
氮化钛薄膜具有出色的涂层性能,如高硬度、低电阻率和良好的耐蚀耐磨性等,在汽车、航空航天和生物医学中有着广泛的应用。磁控溅射技术因其成本低、沉积速率高以及绿色环保等优势,成为氮化钛薄膜制备的主要技术之一。综述了磁控溅射工艺参数对氮化钛薄膜择优取向、晶粒大小、膜层厚度、相组成和力学性能等的影响规律和作用机制。另外,还讨论了掺杂元素的种类、浓度和不同的退火温度对氮化钛薄膜组织结构与性能的影响。最后,提出了磁控溅射制备氮化钛薄膜的研究难点,并展望了未来磁控溅射技术制备氮化钛薄膜的发展方向。
来源:2023年第8期
《热加工工艺》期刊编辑部