国内刊号:61-1133/TG
国际刊号:1001-3814
发布日期:
作者:廖嘉诚, 彭继华,
关键词:ta-C薄膜, 真空阴极电弧沉积, 熔滴, 基体温度, 力学性能,
为研究高分布密度熔滴对ta-C薄膜力学性能和基体温度对熔滴分布密度的影响,分别用直接阴极电弧(DCVA)和磁过滤阴极电弧(FCVA)方法在不同基体温度下制备具有不同熔滴分布密度的ta-C薄膜。用扫描电子显微镜、3D光学轮廓仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱、纳米压痕仪和球盘式摩擦磨损仪分别表征ta-C薄膜表面形貌、粗糙度、组织结构、纳米硬度和摩擦磨损性能。不加热基体时DCVA和FCVA制备的薄膜sp3C含量相近。结果表明:高分布密度熔滴降低薄膜摩擦系数、磨损率和硬度。基体温度升高对DCVA制备薄膜的熔滴分布密度无明显影响,但可使其摩擦系数降低,且磨损率仍低于FCVA制备薄膜的磨损率。
来源:2022年第24期
《热加工工艺》期刊编辑部