热加工工艺

作者：常璐, 刘竞艳, 王朋伟, 田弋纬,

关键词：AlSb, 共溅射, AES,

使用Al、Sb单质靶材，采用共溅射法制备Al、Sb薄膜，并进行原位退火处理以获得AlSb薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）和俄歇电子能谱（AES）分别分析了该薄膜的结构和元素的深度剖析及化学价态。结果表明：共溅射制备的AlSb薄膜呈立方相结构，沿(111)晶向择优取向。共溅射制备的AlSb薄膜表面含有Al、C、Sb和O元素，其中Al元素显示电正性，Sb元素显示电负性。

来源：2022年第12期

《热加工工艺》期刊编辑部

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