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国内刊号：61-1133/TG
国际刊号：1001-3814
发布日期:
作者：郭亮龙, 董会, 黄姝珂, 潘金龙,
关键词：氧化铝陶瓷, 化学机械抛光, 表高度分布, 抛光机理,
利用化学机械抛光对氧化铝陶瓷进行加工，结合表面算术平均高度Sa和均方根高度Sq，研究偏斜度Ssk和陡度Sku随抛光时间的变化规律，分析光滑表面形成机理。结果表明：随着抛光时间的延长，Sa和Sq呈先快速下降后缓慢下降的规律；Ssk呈先下降后上升再波动的规律；Sku呈先上升后下降再上升的规律。塑性去除、晶粒断裂和晶粒脱落三种作用机理是表面高度分布变化的本质，其中塑性去除作用贯穿整个抛光过程，有利于形成光滑表面；而晶粒断裂和晶粒脱落则主要作用于较光滑表面，这也是Ssk和Sku在抛光后期呈波动变化的主要原因。
来源：2022年第4期
《热加工工艺》期刊编辑部
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